技术指标：

1.加速电压：0.02kV-30kV

2.高电压分辨率：0.6nm@15kV（二次电子）

3.低电压分辨率：1.0nm@1kV（二次电子）

4.离子束分辨率：3.0nm@30kV

5.离子束束流强度：0.1pA-100nA

6.离子束电压：500V-30kV

7.移动：X/Y=100mm；Z=50mm；M=13mm

8.样品台可双向倾斜，倾斜范围T为-4到70°，

9.放大倍数 SEM: 12x 至 2,000,000x   FIB: 300x 至 500,000x

主要功能：

1.微纳加工：可用于对材料进行纳米级的切割、雕刻和修饰，实现微米/纳米结构的制备和优化。

2.材料分析：可用于材料表面形貌、成分和结构分析，助力新材料的研发和应用。

3.超薄透射电镜样品制备。

4.配备EBSD，可获取材料大量的晶体学信息。