研究所主站
首页
科技成果
重点项目
成果超市
工作动态
荣誉时刻
获奖证书
控股及参股公司
关于我们
机构概况
联系我们
下载中心
首页
科技成果
重点项目
成果超市
工作动态
荣誉时刻
获奖证书
控股及参股公司
关于我们
机构概况
联系我们
下载中心
媒体扫描
成果超市
专利
软件著作
商业秘密
其他
商业秘密
当前位置:
首页
>
科技成果
>
成果超市
>
商业秘密
锕系元素电沉积制靶
知识产权类型
商业秘密
技术领域
核物理与核化学
应用领域/场景
新核素合成与反应截面研究
适宜转化地区/区域
全国
技术成熟度
已有样品
合作方式
合作方式另议
联系人
杨春莉
邮箱
Chunliyang@impcas.ac.cn
成果简介
U、Th、Np、Am、镧系元素靶的制备,厚度范围1-700 微克/平方厘米,衬底涵盖Al、Fe、Ni、Ti等,沉积率最高至98%,靶形状不限